Elektronik Özel Gazlar — Yüksek Saflık Silindir Tedariki

Islak banyonun kimyasalı bidonla gelir, plazmanın ve ince film reaktörünün kimyasalı silindirle. Elektronik özel gazlar (electronic specialty gases), plazma aşındırma, CVD/ALD biriktirme, oda temizliği ve epitaksi adımlarının sarf malzemesidir. Bu kategoriyle katalogumuz, ıslak proses kimyasallarının yanına hattın gaz tarafını da ekler — iki sarf ailesi tek teklifte planlanır.

Gazlarda saflık dili ıslak kimyasallardan farklıdır: ≥%99,999 (5N) ve üzeri saflık, ppm-ppb düzeyinde nem/O₂/CO limitleri ve partikül kontrolü şartnameyi oluşturur. Silindir tipi, vana ve bağlantı standardı (CGA/DIN/JIS) ürünün parçasıdır. Lot bazlı analiz bilgisi teklif aşamasında paylaşılır; sevkiyat üretici COA + SDS ile yapılır.

Kategorideki Ürünler

Hidroflorokarbon etch gazları (CH₃F, CH₂F₂, CHF₃) Nitrür ve oksit plazma aşındırmasının seçicilik ailesi: hidrojen içeriği arttıkça Si₃N₄ seçiciliği artar. Kontak, spacer ve self-aligned etch reçetelerinin gazları.

Perflorokarbon etch gazları (C₂F₆, C₄F₈, C₄F₆, C₅F₈) Oksit aşındırma ve polimer pasivasyonunun ana ailesi; C₄F₈ Bosch prosesinin, C₄F₆ yüksek en-boy oranlı ileri düğüm etch’inin standardıdır.

Klor (Cl₂) Poli-silisyum, alüminyum ve III-V bileşiklerinin plazma aşındırmasında klor kimyası; flor kimyasının uçucu ürün veremediği metallerin gazı.

Hidrojen klorür (HCl) gazı Epitaksi öncesi yüzey hazırlığı, reaktör temizliği ve seçici epitaksi kimyası; sulu asidin (HCl çözeltisi) gaz fazlı kardeşi.

Anhidr hidrojen florür (AHF) Susuz HF: gaz fazlı oksit sıyırma (vapor HF) ve yerinde florlama işleri. Sulu %49 HF ile aynı molekül, bambaşka elleçleme disiplini.

Tungsten hekzaflorür (WF₆) Kontak ve via tungsten dolgusunun CVD öncüsü; oda sıcaklığına yakın kaynayan, yoğun bir gaz-sıvı.

Flor/azot karışımı (F₂/N₂ %20) CVD oda temizliğinin NF₃ alternatifi; azot içinde seyreltilmiş flor ile yerinde (in-situ) kalıntı sökme.

Gaz Tedarikinde Neye Bakılır?

Üç şey şartnameyi belirler. Saflık ve safsızlık profili: toplam saflık (5N/6N) tek başına yetmez; nem, O₂ ve metal karbonillerin tekil limitleri prosesi etkiler. Silindir ve vana: 10 L laboratuvar tüpünden 440 L Y-silindire kadar boylar; vana çıkışı (CGA/DIN/JIS) ekipmanınızın gaz paneline uymalıdır. Lojistik: bu ürünlerin tamamı tehlikeli madde sınıfındadır; taşıma, depolama ve iade silindir yönetimi teklifin parçası olarak planlanır.

Gaz kabini, hat ve regülatör tarafı ekipman konusudur; sarf tarafı — doğru gaz, doğru saflık, doğru vana — bizim işimizdir. Kararsız kaldığınız noktada proses reçetenizdeki gaz listesini teklif formuna yazın; kalem kalem netleştiririz.

SoleChem Kimya, elektronik özel gazları ıslak proses kimyasallarıyla aynı çatı altında tedarik eder; silindir boyu, vana standardı ve tehlikeli madde lojistiği teklif aşamasında birlikte planlanır. Teklif talebi bırakın.