Perflorokarbon Etch Gazları — C₂F₆, C₄F₈, C₄F₆, C₅F₈
Perflorokarbonlar (PFC) — hidrojen içermeyen, tamamı flor ve karbondan oluşan gazlar — oksit plazma aşındırmasının ve polimer pasivasyonunun ana ailesidir: hekzafloroetan (C₂F₆; CAS 76-16-4), oktaflorosiklobütan (C₄F₈; CAS 115-25-3), hekzafloro-1,3-bütadien (C₄F₆; CAS 685-63-2) ve oktaflorosiklopenten (C₅F₈; CAS 559-40-0). Ailenin iç mantığı karbon/flor oranıdır: oran büyüdükçe plazmada polimer üretimi artar, hendek duvarı daha iyi korunur ve yüksek en-boy oranlı (HAR) yapılarda profil kontrolü güçlenir. SoleChem, dört PFC gazını da elektronik saflık sınıfında tedarik eder; lot bazlı analiz bilgisi teklif aşamasında paylaşılır, sevkiyat üretici COA + SDS ile yapılır.
Teklif talebi bırakın · tipik spesifikasyon aralıkları
Tipik Spesifikasyon Aralıkları
Aşağıdaki değerler tipik aralıklardır; bağlayıcı spesifikasyon ve lot analizi teklif aşamasında netleştirilir.
| Ürün | CAS | Saflık (tipik) | Ana kullanım |
|---|---|---|---|
| C₂F₆ (hekzafloroetan) | 76-16-4 | ≥ %99,9–99,999 | Oksit etch, CVD oda temizliği |
| C₄F₈ (oktaflorosiklobütan) | 115-25-3 | ≥ %99,9–99,999 | Bosch prosesi pasivasyonu, derin oksit etch |
| C₄F₆ (hekzafloro-1,3-bütadien) | 685-63-2 | ≥ %99,9 | HAR kontak/kanal oksit etch (ileri düğüm) |
| C₅F₈ (oktaflorosiklopenten) | 559-40-0 | ≥ %99,9–99,999 | HAR oksit etch, C₄F₆ alternatifi |
Kaynak: elektronik özel gaz kataloglarındaki tipik saflık yapısı; bağlayıcı değerler üretici COA’sındadır.
Ambalaj: C₂F₆ için 47/440 L ve demet (bundle); C₄F₈ 47 L; C₄F₆ ve C₅F₈ 10 L silindir standardıdır — yüksek karbonlu gazlar düşük buhar basınçları nedeniyle küçük kaplarla taşınır.
Kullanıldığı Prosesler
Yüksek en-boy oranlı oksit aşındırma. 3D NAND kanal delikleri ve derin kontaklar, onlarca kat oksit/nitrürü tek plazma adımında geçer; C₄F₆ ve C₅F₈’in zengin polimer kimyası, deliğin dibine inerken duvarı korumanın tek pratik yoludur.
Bosch prosesi (derin silisyum aşındırma). MEMS’in derin dik duvarlı yapıları, SF₆ aşındırma ve C₄F₈ pasivasyon pulslarının dönüşümüyle açılır; C₄F₈ her döngüde duvara koruyucu film bırakır. MEMS sektör sayfasında bağlamı bulabilirsiniz.
Oda temizliği. C₂F₆, CVD odalarının periyodik plazma temizliğinin klasik gazıdır; yerinde temizlik alternatifi için F₂/N₂ karışımına bakın. Plazma kimyasının bütünü kuru aşındırma sayfasında.
İlgili elektronik grade ürünler
Elektronik grade tedarik teklifi
Ürünü, hedef saflık sınıfını, miktarı ve ambalajı yazın; fiyat ve net teslim tarihiyle dönelim.
Ambalaj ve Elleçleme
- C₂F₆: 47 L, 440 L, demet (bundle)
- C₄F₈: 47 L silindir
- C₄F₆, C₅F₈: 10 L silindir
PFC’ler yanıcı değildir ama boğucu gaz sınıfındadır; plazma egzozunda HF ve COF₂ oluşabileceği için abatement hattı standarttır. Silindir iade döngüsü teklif aşamasında planlanır.
Güvenlik
PFC’lerin akut toksisitesi düşüktür; başlıca riskler kapalı hacimde oksijeni seyreltme ve plazma bozunma ürünleridir. Çevre tarafında PFC’ler çok yüksek küresel ısınma potansiyelli F-gazlarıdır; emisyon azaltma ekipmanı fab pratiğinin parçasıdır. Bu bölüm özet bilgidir; bağlayıcı bilgi SDS’tedir, acil durumda 112’yi arayın.
İlgili Sektörler
- Yarı iletken üretimi — oksit etch ve oda temizliği; ailenin ana pazarı.
- MEMS ve sensör üretimi — Bosch prosesi pasivasyonu (C₄F₈).
- İleri paketleme ve OSAT — TSV ve interposer aşındırmaları.
Sıkça Sorulan Sorular
C₄F₆ neden ileri düğümlerde tercih ediliyor?
En yüksek karbon oranını taşıdığı için en zengin polimer pasivasyonunu verir: derin delik aşındırmasında maske ve duvar seçiciliği bu polimerle kurulur. Ek olarak atmosferde görece hızlı parçalanır — yüksek GWP’li C₂F₆/C₄F₈’e göre emisyon profili daha iyidir.
Bosch prosesinde C₄F₈’in rolü ne?
Aşındırıcı değil koruyucudur: SF₆ pulsu silisyumu izotropik kazırken, araya giren C₄F₈ pulsu duvarlara teflon benzeri film bırakır. Döngü tekrarlandıkça derin ve dik profil oluşur; C₄F₈ kalitesi duvar pürüzlülüğüne doğrudan yansır.
Oda temizliği için C₂F₆ mı F₂/N₂ mi?
Yerleşik reçete C₂F₆/NF₃ ailesindendir; F₂/N₂, plazmasız-yerinde temizlik ve düşük emisyon arayan hatların alternatifidir. Ekipman üreticinizin onayladığı kimya belirleyicidir; iki seçeneği de tedarik ediyoruz.
Fiyat ve tedarik nasıl işliyor?
Fiyat; ürün, saflık ve silindir boyuna göre teklifle netleşir. HAR etch reçetenizin tüm gaz kalemlerini tek teklifte toplayın — teklif talebi bırakın.
SoleChem Kimya, PFC ailesini HFC gazları ve klor kimyasıyla birlikte tek katalogdan tedarik eder. Gaz listeniz için teklif talebi bırakın.