Elektronik/SEMI Grade Kimyasal Ürün Kataloğu
Katalogda 8 kategoride 42 ürün var: wafer temizliğinden fotolitografiye, PV teksturlamadan batarya elektrot kaplamasına kadar ıslak adımların tamamı; yanında plazma aşındırmanın etch gazları, ince film hatlarının ALD/CVD öncüleri ve CMP/etch sonrası formüle temizleyiciler. İstediğiniz saflık sınıfı ve ambalajla tedarik ederiz. Lot bazlı analiz bilgisi teklif aşamasında paylaşılır, sevkiyat üretici analiz sertifikası (COA) ve güvenlik bilgi formu (SDS) ile yapılır.
Elektronik grade tedarik teklifi
Ürünü, hedef saflık sınıfını, miktarı ve ambalajı yazın; fiyat ve net teslim tarihiyle dönelim.
Ürün Kategorileri
Asitler
Islak proseslerin taşıyıcı grubu. RCA ve piranha temizliğinden oksit gidermeye, asidik tekstürden metal aşındırmaya kadar her adımda bir asit var. H₂SO₄, HCl, HF, HNO₃, H₃PO₄ ve glasiyel asetik asidin yanında hidrojen peroksit de bu kategoride listelenir — kimyaca asit değil oksidandır, ancak RCA/piranha setiyle birlikte arandığı için burada durur. ITO aşındırmanın oksalik asidi ile post-CMP temizliğin sitrik asidi de bu kategoriye eklendi. → Elektronik grade asit portföyü
Bazlar ve Geliştiriciler
İki ayrı iş yapan grup: temizlik ve tekstür tarafında NH₄OH ile KOH, fotolitografi tarafında %2,38 TMAH geliştirici. Konsantrasyon ve form seçenekleri (pellet, çözelti, geliştirici/stok) teklif aşamasında belirlenir. → Bazlar ve geliştiriciler
Solventler
IPA, aseton ve PGMEA’nın yanında PGME, etil laktat, DMSO, MEA ve yapışma astarı HMDS. Solventte belirleyici parametre iz metalden çok su içeriği, partikül ve buharlaşma kalıntısıdır (NVR); spesifikasyon dili de bu üçlü üzerinden kurulur. → Temiz oda solventleri
Etchant ve Hazır Karışımlar
Kendiniz karıştırmak yerine oranı tutturulmuş, lot içi tekrarlanabilir karışım. Katalogda BOE 7:1 (diğer oranlar sipariş üzerine), BOE’nin tampon bileşeni amonyum florür, alüminyum ve krom-altın etchant’ları, PCB mikroetch persülfatları ve fotorezist stripper. → Hazır etchant karışımları
Batarya Kimyasalları
Batarya üretiminde saflık dili farklıdır: iz metal kadar su içeriği belirleyicidir, bu yüzden “battery grade” ayrı bir katman sayılır. Katalogda NMP ve elektrolit çözücü seti (DMC/EC/EMC). → Battery grade kimyasallar
Elektronik Özel Gazlar
Plazma aşındırmanın ve reaktör temizliğinin silindirle gelen sarfları: hidroflorokarbon ve perflorokarbon etch gazları, Cl₂, HCl gazı, anhidr HF, WF₆ ve F₂/N₂ karışımı. Saflık dili 5N-6N; silindir/vana standardı şartnamenin parçası. → Elektronik özel gazlar
ALD/CVD Öncüleri
İnce film hatlarının prekürsörleri: TiN için TDMAT, nitrür/oksit için HCDS ve BDEAS. Paslanmaz çelik kanister, kapalı sistem transfer, ppb-ppt sınıfı safsızlık limitleri. → ALD/CVD öncüleri
Proses Temizleyicileri
Kullanıma hazır formülasyonlar: etch sonrası kalıntı temizleyici (PERR), post-CMP temizleme çözeltisi ve formülasyonların aktif maddesi hidroksilamin. → Proses temizleyicileri
Tüm Ürünler
| Ürün | Formül / CAS | Tipik kullanım |
|---|---|---|
| Hidrojen peroksit | H₂O₂ · 7722-84-1 | RCA SC-1/SC-2 ve piranha oksidanı |
| Sülfürik asit | H₂SO₄ · 7664-93-9 | Piranha/SPM, rezist sıyırma, PCB banyoları |
| Hidroklorik asit | HCl · 7647-01-0 | RCA SC-2, metalik iyon giderme |
| Hidroflorik asit | HF · 7664-39-3 | Doğal oksit ve PSG giderme, SiO₂ etch |
| Nitrik asit | HNO₃ · 7697-37-2 | Asidik tekstür, metal etch karışımları |
| Fosforik asit | H₃PO₄ · 7664-38-2 | Al etchant bileşeni, sıcak fosforik nitrür etch |
| Asetik asit (glasiyel) | CH₃COOH · 64-19-7 | Al etchant ve tekstür karışımlarında tampon |
| Oksalik asit | (COOH)₂ · 144-62-7 | Display hatlarında ITO aşındırmanın zayıf asidi |
| Sitrik asit | C₆H₈O₇ · 77-92-9 | Post-CMP temizlik, III-V seçici mikroetch |
| Amonyum hidroksit | NH₄OH · 1336-21-6 | RCA SC-1, partikül ve organik giderme |
| Potasyum hidroksit | KOH · 1310-58-3 | Mono-Si teksturlama, anizotropik Si etch |
| TMAH | (CH₃)₄NOH · 75-59-2 | %2,38 fotorezist geliştirici, %25 stok çözelti |
| İzopropil alkol | IPA · 67-63-0 | Marangoni/buhar kurutma, tekstür banyosu bileşeni |
| Aseton | C₃H₆O · 67-64-1 | Rezist lift-off, genel solvent temizlik |
| PGMEA (PM Asetat) | 108-65-6 | Fotorezist çözücüsü, thinner ve EBR |
| PGME | 107-98-2 | Thinner/EBR formülasyonlarında PGMEA’nın eşlikçisi |
| Etil laktat | 97-64-3 | Rezist formülasyon çözücüsü, EBR bileşeni |
| DMSO | 67-68-5 | Stripper formülasyonlarının çözücü bileşeni |
| MEA (monoetanolamin) | 141-43-5 | Stripper formülasyonlarının amin bileşeni |
| HMDS | 999-97-3 | Rezist öncesi yapışma astarı (adhesion promoter) |
| BOE 7:1 | NH₄F : HF | Fotolitografiyle uyumlu kontrollü SiO₂ etch |
| Amonyum florür | NH₄F · 12125-01-8 | BOE’nin tampon bileşeni, %40 çözelti |
| Alüminyum etchant | PAN karışımı | Al ince film desenleme (display, MEMS, interconnect) |
| Krom-altın etchant | CAN bazlı · KI/I₂ | Cr yapışma katmanı ve Au metalizasyon desenleme |
| Persülfatlar | SPS/APS | PCB mikroetch ve bakır yüzey hazırlığı |
| Fotorezist stripper | NMP/DMSO-amin bazlı | Sertleşmiş rezist sıyırma |
| NMP | 872-50-4 | Katot çamuru çözücüsü, rezist stripper |
| Elektrolit çözücüleri | DMC/EC/EMC | Li-ion elektrolit çözücü seti; su içeriği kritik |
| Klor (gaz) | Cl₂ · 7782-50-5 | Poli-Si/Al/III-V plazma aşındırma |
| Hidrojen klorür (gaz) | HCl · 7647-01-0 | Epitaksi öncesi temizlik, seçici epi |
| Anhidr HF | HF · 7664-39-3 | Vapor HF oksit sıyırma, MEMS release |
| HFC etch gazları | CH₃F/CH₂F₂/CHF₃ | Nitrür/oksit seçici plazma etch |
| PFC etch gazları | C₂F₆/C₄F₈/C₄F₆/C₅F₈ | HAR oksit etch, Bosch pasivasyonu, oda temizliği |
| Tungsten hekzaflorür | WF₆ · 7783-82-6 | CVD tungsten kontak/via dolgusu |
| F₂/N₂ karışımı | F₂ %20 · 7782-41-4 | CVD oda temizliği, NF₃ alternatifi |
| TDMAT | 3275-24-9 | TiN bariyer/elektrot ALD-MOCVD öncüsü |
| HCDS | Si₂Cl₆ · 13465-77-5 | Düşük sıcaklık SiN/SiO₂ öncüsü |
| BDEAS | 27804-64-4 | PEALD SiO₂, çift desenleme spacer oksidi |
| PERR temizleyici | Formüle ürün | Etch/ashing sonrası kalıntı temizliği |
| Post-CMP temizleyici | Formüle ürün | CMP sonrası partikül ve metal iyon temizliği |
| Hidroksilamin | NH₂OH · 7803-49-8 | Stripper/PERR formülasyonlarının aktif maddesi |
| Silikon etchant | HNA karışımı | İzotropik Si aşındırma, poli-Si inceltme |
Grade Katmanları — Hangi Saflık Sınıfı?
Her ürünü iki katmanda sunuyoruz: EL Grade (VLSI) temel ve ULSI/SEMI üst sınıf sipariş üzerine. Bunun nedeni pazarın gerçek talebi; ppb düzeyi iz metal, PV hattından PCB’ye ve üniversite temiz odasına kadar işlerin çoğunu karşılar, ppt sınıfı ise ileri fab prosesine özgüdür.
Sektörde iki adlandırma paralel yaşar. Ticari dilde EG/MOS → VLSI (10–100 ppb) → ULSI (<10 ppb) → SLSI/XLSI sıralaması kullanılır; şartname dilinde ise her kimyasalın kendi SEMI C-belgesi ve tier yapısı esastır. İkisinin nasıl eşleştiğini SEMI C-serisi sınıflandırması sayfasında tablo halinde açıkladık. Saflık sınıfının ne anlama geldiğini elektronik grade nedir, hangi işlemin hangi sınıfı gerektirdiğini ise elektronik grade ile teknik grade karşılaştırması sayfasında bulabilirsiniz.
Ürün sayfalarındaki tabloların tamamı tipik aralıklardır. Bağlayıcı spesifikasyon, lot analizi ve ambalaj seçenekleri teklif aşamasında netleşir.
Aradığınız Ürün Listede Yok mu?
Katalog, Türkiye’deki gerçek talebe göre kalibre edilmiş bir çekirdek liste. İlk genişleme portföyünün tamamı — amonyum florür, alüminyum/krom-altın etchant’ları, persülfatlar, elektrolit çözücü seti, DMSO-MEA stripper bileşenleri, PGME, etil laktat, oksalik asit ve HMDS — artık kendi sayfalarıyla katalogda. Listede hâlâ olmayan bir kalem için de bugün teklif isteyebilirsiniz — liste, sayfası olan ürünlerle sınırlı değil.
SoleChem Kimya, elektronik saflık sınıfındaki ıslak proses kimyasallarını tedarik eder; ürün, hedef grade, hacim ve ambalajı birlikte netleştiririz. Teklif talebi bırakın veya birden fazla ürünü tek listede iletin.
Elektronik grade tedarik teklifi
Ürünü, hedef saflık sınıfını, miktarı ve ambalajı yazın; fiyat ve net teslim tarihiyle dönelim.