Klor (Cl₂) — Elektronik Grade Plazma Etch Gazı
Klor (Chlorine, Cl₂; CAS 7782-50-5), plazma aşındırmanın flor dışındaki ana kimyasıdır. Florun işe yaramadığı yerde devreye girer: alüminyum ve bakırın florürleri uçucu değildir, klorürleri ise plazma sıcaklığında yüzeyden ayrılır. Poli-silisyum gate aşındırma, Al metal hatları ve GaN/GaAs gibi III-V bileşik yarı iletkenlerin mesa aşındırması klor kimyasıyla yürür. SoleChem, elektronik grade klor gazını yüksek saflık silindirlerde tedarik eder; lot bazlı analiz bilgisi teklif aşamasında paylaşılır, sevkiyat üretici COA + SDS ile yapılır.
Teklif talebi bırakın · tipik spesifikasyon aralıkları
Tipik Spesifikasyon Aralıkları
Aşağıdaki değerler tipik aralıklardır; bağlayıcı spesifikasyon ve lot analizi teklif aşamasında netleştirilir.
| Parametre | Elektronik grade — tipik |
|---|---|
| Saflık | ≥ %99,999 (5N) ve üzeri |
| Nem (H₂O) | ppm altı, şartnamede sınırlı |
| O₂ + Ar/N₂ | ppm düzeyi tekil limitler |
| Ambalaj | 10 L / 47 L silindir; 440 L Y, 930 L T silindir |
| Vana bağlantısı | CGA sınıfı; teklif aşamasında netleşir |
Kaynak: elektronik özel gaz kataloglarındaki tipik spesifikasyon yapısı; bağlayıcı değerler üretici COA’sındadır.
Kullanıldığı Prosesler
Poli-silisyum gate aşındırma. Transistörün gate hattı, Cl₂ (çoğu reçetede HBr ile birlikte) plazmasıyla desenlenmiştir; klor kimyası oksit alt katmana yüksek seçicilik verir ve gate profilini dik tutar. Kuru aşındırmanın mantığı için plazma aşındırma sayfasına bakın.
Alüminyum metal aşındırma. Al’nin ıslak tarafta karşılığı PAN karışımıdır; ince hat ve dik profil gerektiren işlerde ise Cl₂/BCl₃ plazması standarttır. AlF₃ uçucu olmadığı için flor bu işte çalışmaz — klorun varlık nedeni budur.
III-V ve LED mesa aşındırma. GaN, GaAs ve InP cihazlarında mesa yapıları klor bazlı plazmayla açılır; LED-optoelektronik ve güç elektroniği hatlarının gazıdır.
İlgili elektronik grade ürünler
Elektronik grade tedarik teklifi
Ürünü, hedef saflık sınıfını, miktarı ve ambalajı yazın; fiyat ve net teslim tarihiyle dönelim.
Ambalaj ve Elleçleme
- 10 L ve 47 L silindir (laboratuvar ve pilot hat)
- 440 L Y-silindir, 930 L T-silindir (üretim hattı)
Klor basınç altında sıvılaşmış olarak sevk edilir. Gaz kabini, sızıntı sensörü ve nötralizasyon (kostik skruber) altyapısı kullanım yerinin sorumluluğudur; silindir iade döngüsü ve tehlikeli madde taşıması teklif aşamasında planlanır.
Güvenlik
Klor toksik ve güçlü oksitleyici bir gazdır; solunması akciğer hasarına yol açar ve düşük derişimlerde bile kokusuyla kendini belli eder. Elektronik hatlarda kapalı gaz kabini, çift cidarlı hat ve sürekli sensör izleme standart pratiktir. Bu bölüm özet bilgidir; bağlayıcı bilgi SDS’tedir, acil durumda 112’yi arayın.
İlgili Sektörler
- Yarı iletken üretimi — poli-Si gate ve metal aşındırma.
- LED ve optoelektronik — GaN mesa aşındırma.
- Güç elektroniği (SiC/GaN) — III-V/GaN cihaz desenleme.
Sıkça Sorulan Sorular
Neden alüminyum florla değil klorla aşındırılıyor?
Plazma aşındırma, yüzey ürününün uçuculuğuna dayanır: AlCl₃ proses sıcaklığında buharlaşır, AlF₃ ise buharlaşmaz ve yüzeyi pasifleştirir. Bu yüzden Al ve Cu gibi metaller klor kimyası ister; oksit ve nitrür ise flor kimyasıyla aşındırılır.
Sulu HCl yerine Cl₂ mi almalıyım?
Farklı işler: hidroklorik asit çözeltisi ıslak temizliğin (SC-2) kimyasalıdır; Cl₂ gazı plazma aşındırmanın sarfıdır. Epitaksi ve reaktör temizliği içinse HCl gazı ayrı üründür.
Hangi silindir boyu bana uygun?
Aylık tüketiminize ve gaz panelinize bağlıdır: Ar-Ge reaktörü için 10–47 L, sürekli üretim hattı için Y/T silindir ekonomiktir. Vana standardınızı (CGA numarası) teklif formuna yazarsanız eşleştirmeyi biz yaparız.
Fiyat ve tedarik nasıl işliyor?
Fiyat; saflık, silindir boyu ve iade lojistiğine göre teklifle netleşir. Klorla birlikte kullanılan diğer etch gazlarını aynı teklifte toplamak lojistikte avantajlıdır — teklif talebi bırakın.
SoleChem Kimya, elektronik grade klor gazını etch gazı portföyüyle birlikte tedarik eder; silindir, vana ve tehlikeli madde lojistiği tek planda yönetilir. Teklif talebi bırakın.